光刻技術(shù)的原理是什么？
光刻工藝是利用類似照相制版的原理，在半導(dǎo)體晶片表面的掩膜層上面刻蝕精細(xì)圖形的表面加工技術(shù)。也就是使用可見光和紫外光線把電路圖案投影“印刷”到覆有感光材料的硅晶片表面，再經(jīng)過蝕刻工藝去除無用部分，所剩就是電路本身了。光刻工藝的流程中有制版、硅片氧化、涂膠、曝光、顯影、腐蝕、去膠等。
光刻是制作半導(dǎo)體器件和集成電路的關(guān)鍵工藝。自20世紀(jì)60年代以來，都是用帶有圖形的掩膜覆蓋在被加工的半導(dǎo)體芯片表面，制作出半導(dǎo)體器件的不同工作區(qū)。隨著集成電路所包含的器件越來越多，要求單個(gè)器件尺寸及其間隔越來越小，所以常以光刻所能分辨的最小線條寬度來標(biāo)志集成電路的工藝水平。國際上較先進(jìn)的集成電路生產(chǎn)線是1微米線，即光刻的分辨線寬為1微米。日本兩家公司成功地應(yīng)用加速器所產(chǎn)生的同步輻射X射線進(jìn)行投影式光刻，制成了線寬為0.1微米的微細(xì)布線，使光刻技術(shù)達(dá)到新的水平。
紫外光負(fù)膠的顯影液和清洗液的成分是什么
半導(dǎo)體工藝——光刻 紫外負(fù)性光刻膠 顯影液:二甲苯.清洗液:乙酸丁脂或乙醇、三氯乙烯. 顯影中的常見問題: a、顯影不完全(Incomplete Development).表面還殘留有光刻膠.由顯影液不足造成. b、顯影不夠(Under Development).顯影的側(cè)壁不垂直.由顯影時(shí)間不足造成. c、過度顯影(Over Development).靠近表面的光刻膠被顯影液過度溶解,形成臺(tái)階.由顯影時(shí)間太長造成.
聞起來像煮玉米1樣的味道的廢氣有甚么成份?
這類氣味主要是在將玻璃基板上的光刻膠用剝離液進(jìn)行剝離進(jìn)程中產(chǎn)生的.
光刻膠 正膠150度烘烤還可以去除么
可以啊,一般正膠比負(fù)膠好清洗啊.可以用異丙醇或者丙酮超聲清洗.實(shí)在不行用濃NaOH.
剝離液除了在TFT – LCD,PCB,CF中的應(yīng)用,還有哪些方面?
Stripper液嗎?只要半導(dǎo)體都會(huì)用到啊,光阻的剝離都會(huì)用stripper液
想DIY液晶顯示器需要寫什么配件了
大概就是這樣完成的:一．工藝流程簡述：
前段工位：
ITO 玻璃的投入（grading）—— 玻璃清洗與干燥（CLEANING）——涂光刻膠（PR COAT）——前烘烤（PREBREAK）——曝光（DEVELOP） 顯影（MAIN CURE）——蝕刻（ETCHING）—— 去膜（STRIP CLEAN）—— 圖檢（INSP）——清洗干燥（CLEAN）——TOP 涂布（TOP COAT）——
UV 烘烤（UV CURE）—— 固化（MAIN CURE）——清洗（CLEAN）—— 涂取向劑（PI PRINT）——固化（MAIN CURE）—— 清洗（CLEAN）——絲網(wǎng)印刷（SEAL/SHORT PRINTING）—— 烘烤（CUPING FURNACE）—— 噴襯墊料（SPACER SPRAY）—— 對(duì)位壓合（ASSEMBLY）—— 固化（SEAL MAIN CURING）
1． ITO 圖形的蝕刻：（ITO 玻璃的投入到圖檢完成）
A． ITO 玻璃的投入：根據(jù)產(chǎn)品的要求，選擇合適的ITO 玻璃裝入傳遞籃具中，要求ITO 玻璃的規(guī)格型號(hào)符合產(chǎn)品要求，切記ITO 層面一定要向上插入籃具中。
B． 玻璃的清洗與干燥： 將用清洗劑以及去離子水（DI 水）等洗凈ITO 玻璃，并用物理或者化學(xué)的方法將ITO 表面的雜質(zhì)和油污洗凈，然后把水除去并干燥，保證下道工藝的加工質(zhì)量。
C． 涂光刻膠： 在ITO 玻璃的導(dǎo)電層面上均勻涂上一層光刻膠，涂過光刻膠的玻璃要在一定的溫度下作預(yù)處理：（如下圖）
D． 前烘：在一定的溫度下將涂有光刻膠的玻璃烘烤一段時(shí)間，以使光刻膠中的溶劑揮發(fā)，增加與玻璃表面的粘附性。
E． 曝光：用紫外光（UV）通過預(yù)先制作好的電極圖形掩模版照射光刻膠表面，使被照光刻膠層發(fā)生反應(yīng)，在涂有光刻膠的玻璃上覆蓋光刻掩模版在紫外燈下對(duì)光刻膠進(jìn)行選擇性曝光：（如圖所示）
F． 顯影：用顯影液處理玻璃表面，將經(jīng)過光照分解的光刻膠層除去，保留未曝光部分的光刻膠層，用化學(xué)方法使受UV 光照射部分的光刻膠溶于顯影液中，顯影后的玻璃要經(jīng)過一定的溫度的堅(jiān)膜處理。（如圖：）
G． 堅(jiān)膜：將玻璃再經(jīng)過一次高溫處理，使光刻膠更加堅(jiān)固。
H． 刻蝕：用適當(dāng)?shù)乃峥桃簩o光刻膠覆蓋的ITO 膜蝕掉，這樣就得到了所需要的ITO 電極圖形，如圖所示：
注：ITO 玻璃為（In2O3 與SnO2）的導(dǎo)電玻璃，此易與酸發(fā)生反應(yīng)，而用于蝕刻掉多余的ITO，從而得到相應(yīng)的拉線電極。
I． 去膜：用高濃度的堿液（NaOH 溶液）作脫膜液，將玻璃上余下的光刻膠剝離掉，從而使ITO 玻璃上形成與光刻掩模版完全一致的ITO 圖形。（即按客戶要求進(jìn)行顯示的部分拉線蝕刻完成，如圖）
J． 清洗干燥：用高純水沖洗余下的堿液和殘留的光刻膠以及其它的雜質(zhì)。
2． 特殊制程：（TOP 膜的涂布到固化后清洗）
一般的TN 與STN 產(chǎn)品不要求此步驟，TOP 膜的涂布工藝是在光刻工藝之后再做一次SiO2 的涂布，以此把刻蝕區(qū)與非刻蝕區(qū)之間的溝槽填平并把電極覆蓋住，這既可以起到絕緣層的作用，又能有效地消除非顯示狀態(tài)下的電極底影，還有助于改善視角特性等等，因此大部分的高檔次產(chǎn)品要求有TOP 涂布。
3． 取向涂布（涂取向劑到清洗完成）
此步工藝為在蝕刻完成的ITO 玻璃表面涂覆取向?qū)?，并用特定的方法?duì)限向?qū)舆M(jìn)行處理，以使液晶分子能夠在取向?qū)颖砻嫜靥囟ǖ姆较蛉∠颍ㄅ帕校瞬襟E是液晶顯示器生產(chǎn)的特有技術(shù)。
A． 涂取向劑：將有機(jī)高分子取向材料涂布在玻璃的表面，即采用選擇涂覆的方法，在ITO 玻璃上的適當(dāng)位置涂一層均勻的取向?qū)樱瑫r(shí)對(duì)取向?qū)幼龉袒幚?。（一般在顯示區(qū)）
B． 固化： 通過高溫處理使取向?qū)庸袒?
C． 取向摩擦：用絨布類材料以特定的方向摩擦取向?qū)颖砻?，以使液晶分子將來能夠沿著取向?qū)拥哪Σ练较蚺帕?。如TN 型號(hào)摩擦取向：45 度
D． 清洗： 取向摩擦后的玻璃上會(huì)留下絨布線等污染物，需要采取特殊的清洗步驟來消除污染物。
4． 空盒制作：（絲網(wǎng)印刷到固化）
此步工藝是把兩片導(dǎo)電玻璃對(duì)疊，利用封接材料貼合起來并固化，制成間隙為特定厚度的玻璃盒。制盒技術(shù)是制造液晶顯示器的最為關(guān)鍵的技術(shù)之一。（必須嚴(yán)格控制液晶盒的間距）
A． 絲印邊框及銀點(diǎn)：將封接材料（封框膠）用絲網(wǎng)印刷的方法分別對(duì)上板印上邊框膠和和下板玻璃印是導(dǎo)電膠。
B． 噴襯墊料： 在下玻璃上均勻分布支撐材料。將一定尺寸的襯墊料（一般為幾個(gè)微米）均勻分散在玻璃表面，制盒時(shí)就靠這些材料保證玻璃之間的間距即盒厚。
C． 對(duì)位壓合： 按對(duì)位標(biāo)記上與下玻璃對(duì)位粘合，將對(duì)應(yīng)的兩片玻璃面對(duì)面用封接材料粘合起來。
D． 固化： 在高溫下使封接材料固化。固化時(shí)一般在上下玻璃上加上一定的壓力，以使液晶盒間距（厚度保持均勻）。
后段工位：
切割（SCRIBING）—— Y 軸裂片（BREAK OFF）—— 灌注液晶（LC INJECTION）—— 封口（END SEALING）——X 軸裂片（BREAK OFF）—— 磨邊—— 一次清洗（CLEAN） ——再定向（HEATING） ——光臺(tái)目檢（VISUAL INSP）—— 電測(cè)圖形檢驗(yàn)（ELECTRICAL）——二次清洗（CLEAN）—— 特殊制程（POLYGON）——背?。˙ACK PRINTING）—— 干墨（CURE）—— 貼片（POLARIZER ASSEMBLY）—— 熱壓（CLEAVER）—— 成檢外觀檢判（FQC） ——上引線（BIT PIN）—— 終檢（FINAL INSP）——包裝（PACKING）—— 入庫（IN STOCK）
兄弟;目的何在啊?????
光阻剝離液注冊(cè)商標(biāo)屬于哪一類？
光阻剝離液屬于商標(biāo)分類第1類0104群組；
經(jīng)路標(biāo)網(wǎng)統(tǒng)計(jì)，注冊(cè)光阻剝離液的商標(biāo)達(dá)1件。
注冊(cè)時(shí)怎樣選擇其他小項(xiàng)類：
1.選擇注冊(cè)（光阻劑，群組號(hào)：0104）類別的商標(biāo)有1件，注冊(cè)占比率達(dá)100%
2.選擇注冊(cè)（光阻清洗劑，群組號(hào)：0104）類別的商標(biāo)有1件，注冊(cè)占比率達(dá)100%
3.選擇注冊(cè)（工業(yè)用光阻化學(xué)制劑，群組號(hào)：0104）類別的商標(biāo)有1件，注冊(cè)占比率達(dá)100%
4.選擇注冊(cè)（工業(yè)用光阻化學(xué)原料，群組號(hào)：0104）類別的商標(biāo)有1件，注冊(cè)占比率達(dá)100%
5.選擇注冊(cè)（工業(yè)用顯影液，群組號(hào)：0104）類別的商標(biāo)有1件，注冊(cè)占比率達(dá)100%
6.選擇注冊(cè)（工業(yè)用洗凈劑，群組號(hào)：0104）類別的商標(biāo)有1件，注冊(cè)占比率達(dá)100%
7.選擇注冊(cè)（化學(xué)試劑(非醫(yī)用或獸醫(yī)用)，群組號(hào)：0106）類別的商標(biāo)有1件，注冊(cè)占比率達(dá)100%
計(jì)算器的顯示器有什么顯示的也有什么
液晶顯示器(lcd)是基于液晶電光效應(yīng)的顯示器件。包括段顯示方式的字符段顯示器件；矩陣顯示方式的字符、圖形、圖像顯示器件；矩陣顯示方式的大屏幕液晶投影電視液晶屏等。液晶顯示器的工作原理是利用液晶的物理特性，在通電時(shí)導(dǎo)通，使液晶排列變得有秩序，使光線容易通過；不通電時(shí)，排列則變得混亂，阻止光線通過。一．工藝流程簡述：
前段工位：
ITO 玻璃的投入（grading）—— 玻璃清洗與干燥（CLEANING）——涂光刻膠（PR COAT）——前烘烤（PREBREAK）——曝光（DEVELOP） 顯影（MAIN CURE）——蝕刻（ETCHING）—— 去膜（STRIP CLEAN）—— 圖檢（INSP）——清洗干燥（CLEAN）——TOP 涂布（TOP COAT）——
UV 烘烤（UV CURE）—— 固化（MAIN CURE）——清洗（CLEAN）—— 涂取向劑（PI PRINT）——固化（MAIN CURE）—— 清洗（CLEAN）——絲網(wǎng)印刷（SEAL/SHORT PRINTING）—— 烘烤（CUPING FURNACE）—— 噴襯墊料（SPACER SPRAY）—— 對(duì)位壓合（ASSEMBLY）—— 固化（SEAL MAIN CURING）
1． ITO 圖形的蝕刻：（ITO 玻璃的投入到圖檢完成）
A． ITO 玻璃的投入：根據(jù)產(chǎn)品的要求，選擇合適的ITO 玻璃裝入傳遞籃具中，要求ITO 玻璃的規(guī)格型號(hào)符合產(chǎn)品要求，切記ITO 層面一定要向上插入籃具中。
B． 玻璃的清洗與干燥： 將用清洗劑以及去離子水（DI 水）等洗凈ITO 玻璃，并用物理或者化學(xué)的方法將ITO 表面的雜質(zhì)和油污洗凈，然后把水除去并干燥，保證下道工藝的加工質(zhì)量。
C． 涂光刻膠： 在ITO 玻璃的導(dǎo)電層面上均勻涂上一層光刻膠，涂過光刻膠的玻璃要在一定的溫度下作預(yù)處理：（如下圖）
D． 前烘：在一定的溫度下將涂有光刻膠的玻璃烘烤一段時(shí)間，以使光刻膠中的溶劑揮發(fā)，增加與玻璃表面的粘附性。
E． 曝光：用紫外光（UV）通過預(yù)先制作好的電極圖形掩模版照射光刻膠表面，使被照光刻膠層發(fā)生反應(yīng)，在涂有光刻膠的玻璃上覆蓋光刻掩模版在紫外燈下對(duì)光刻膠進(jìn)行選擇性曝光：（如圖所示）
F． 顯影：用顯影液處理玻璃表面，將經(jīng)過光照分解的光刻膠層除去，保留未曝光部分的光刻膠層，用化學(xué)方法使受UV 光照射部分的光刻膠溶于顯影液中，顯影后的玻璃要經(jīng)過一定的溫度的堅(jiān)膜處理。（如圖：）
G． 堅(jiān)膜：將玻璃再經(jīng)過一次高溫處理，使光刻膠更加堅(jiān)固。
H． 刻蝕：用適當(dāng)?shù)乃峥桃簩o光刻膠覆蓋的ITO 膜蝕掉，這樣就得到了所需要的ITO 電極圖形，如圖所示：
注：ITO 玻璃為（In2O3 與SnO2）的導(dǎo)電玻璃，此易與酸發(fā)生反應(yīng)，而用于蝕刻掉多余的ITO，從而得到相應(yīng)的拉線電極。
I． 去膜：用高濃度的堿液（NaOH 溶液）作脫膜液，將玻璃上余下的光刻膠剝離掉，從而使ITO 玻璃上形成與光刻掩模版完全一致的ITO 圖形。（即按客戶要求進(jìn)行顯示的部分拉線蝕刻完成，如圖）
J． 清洗干燥：用高純水沖洗余下的堿液和殘留的光刻膠以及其它的雜質(zhì)。
2． 特殊制程：（TOP 膜的涂布到固化后清洗）
一般的TN 與STN 產(chǎn)品不要求此步驟，TOP 膜的涂布工藝是在光刻工藝之后再做一次SiO2 的涂布，以此把刻蝕區(qū)與非刻蝕區(qū)之間的溝槽填平并把電極覆蓋住，這既可以起到絕緣層的作用，又能有效地消除非顯示狀態(tài)下的電極底影，還有助于改善視角特性等等，因此大部分的高檔次產(chǎn)品要求有TOP 涂布。
3． 取向涂布（涂取向劑到清洗完成）
此步工藝為在蝕刻完成的ITO 玻璃表面涂覆取向?qū)?，并用特定的方法?duì)限向?qū)舆M(jìn)行處理，以使液晶分子能夠在取向?qū)颖砻嫜靥囟ǖ姆较蛉∠颍ㄅ帕校?，此步驟是液晶顯示器生產(chǎn)的特有技術(shù)。
A． 涂取向劑：將有機(jī)高分子取向材料涂布在玻璃的表面，即采用選擇涂覆的方法，在ITO 玻璃上的適當(dāng)位置涂一層均勻的取向?qū)?，同時(shí)對(duì)取向?qū)幼龉袒幚?。（一般在顯示區(qū)）
B． 固化： 通過高溫處理使取向?qū)庸袒?
C． 取向摩擦：用絨布類材料以特定的方向摩擦取向?qū)颖砻妫允挂壕Х肿訉砟軌蜓刂∠驅(qū)拥哪Σ练较蚺帕小Ｈ鏣N 型號(hào)摩擦取向：45 度
D． 清洗： 取向摩擦后的玻璃上會(huì)留下絨布線等污染物，需要采取特殊的清洗步驟來消除污染物。
4． 空盒制作：（絲網(wǎng)印刷到固化）
此步工藝是把兩片導(dǎo)電玻璃對(duì)疊，利用封接材料貼合起來并固化，制成間隙為特定厚度的玻璃盒。制盒技術(shù)是制造液晶顯示器的最為關(guān)鍵的技術(shù)之一。（必須嚴(yán)格控制液晶盒的間距）
A． 絲印邊框及銀點(diǎn)：將封接材料（封框膠）用絲網(wǎng)印刷的方法分別對(duì)上板印上邊框膠和和下板玻璃印是導(dǎo)電膠。
B． 噴襯墊料： 在下玻璃上均勻分布支撐材料。將一定尺寸的襯墊料（一般為幾個(gè)微米）均勻分散在玻璃表面，制盒時(shí)就靠這些材料保證玻璃之間的間距即盒厚。
C． 對(duì)位壓合： 按對(duì)位標(biāo)記上與下玻璃對(duì)位粘合，將對(duì)應(yīng)的兩片玻璃面對(duì)面用封接材料粘合起來。
D． 固化： 在高溫下使封接材料固化。固化時(shí)一般在上下玻璃上加上一定的壓力，以使液晶盒間距（厚度保持均勻）。
后段工位：
切割（SCRIBING）—— Y 軸裂片（BREAK OFF）—— 灌注液晶（LC INJECTION）—— 封口（END SEALING）——X 軸裂片（BREAK OFF）—— 磨邊—— 一次清洗（CLEAN） ——再定向（HEATING） ——光臺(tái)目檢（VISUAL INSP）—— 電測(cè)圖形檢驗(yàn)（ELECTRICAL）——二次清洗（CLEAN）—— 特殊制程（POLYGON）——背?。˙ACK PRINTING）—— 干墨（CURE）—— 貼片（POLARIZER ASSEMBLY）—— 熱壓（CLEAVER）—— 成檢外觀檢判（FQC） ——上引線（BIT PIN）—— 終檢（FINAL INSP）——包裝（PACKING）—— 入庫（IN STOCK
計(jì)算器的顯示屏是什么類型,是什么?
液晶LCD LED而已,初級(jí)的LCD
在半導(dǎo)體技術(shù)中l(wèi)ithography 是什么意思，怎么翻譯
lithography是一種平板印刷技術(shù)，在平面光波回路的制作中一直發(fā)揮著重要的作用。具體過程如下：
首先在二氧化硅為主要成分的芯層材料上面，淀積一層光刻膠；
使用掩模版對(duì)光刻膠曝光固化，并在光刻膠層上形成固化的與掩模板完全對(duì)應(yīng)的幾何圖形；
對(duì)光刻膠上圖形顯影，與掩模對(duì)應(yīng)的光刻膠圖形可以使芯層材料抵抗刻蝕過程；
使用等離子交互技術(shù)，將二氧化硅刻蝕成與光刻膠圖形對(duì)應(yīng)的芯層形狀；
光刻膠層剝離；
最后在已經(jīng)形成的芯層圖形上面淀積上包層。
使用lithography方法幾乎可以在芯層材料上形成各種幾何圖形，圖形的精細(xì)度取決于曝光系統(tǒng)的光源波長，現(xiàn)有UV、DUV、e-beam、x-ray、nano-imprint幾種曝光方式。